プラントのPI制御器を状態空間形式で求める：

あるいはプラントのために伝達関数として求める：

制御器のタイプを指定する：

比例：

比例積分：

比例積分と微分：

PIDのフィルターをかけたバージョン：

結果の制御器のパフォーマンスを評価する：

次の基準：

外乱拒絶：

PIDのパラメータをそれぞれの実装技術に適した標準形で得る：

理想形：

直列形：

並列形：

SystemsModelControllerDataオブジェクトを入手し，そこから特性を抽出する：

特性を直接得る：

特性リストを得る：

計算された制御器，PIDフィードバック制御器．フィードフォワードフィルタを求める：

フィードバック制御器伝達関数とPID制御器：

デフォルトで，フィードフォワードフィルタはない：

基準，過程外乱，センサーノイズから出力への閉ループ伝達関数を得る：

出力伝達関数に対する基準は，基準の変更をたどる能力を測る：

出力伝達関数に対する外乱は，過程の外乱を拒絶する能力を測る：

出力伝達関数に対するセンサーノイズは，測定ノイズを拒絶する能力を測る：

基準，過程外乱，センサーノイズからコントロール出力への伝達関数を求める：

コントロール伝達関数に対する基準は，基準に従うコントロールの努力を測る：

出力伝達関数に対する外乱は，外乱を拒絶するコントロールの努力を測る：

出力伝達関数に対するセンサーノイズは，センサーノイズを拒絶するコントロールの努力を測る：

デフォルトで，制御器のアーキテクチャは比例積分制御器である：

制御器のアーキテクチャを指定する：

比例("P")制御器：

比例積分("PI")制御器：

比例微分("PD")制御器：

比例積分微分("PID")制御器：

フィルターをかけた比例微分 ("PFD")制御器：

フィルターをかけた比例積分微分 ("PIFD")制御器：

積分作用を使って，定常状態基準に従う誤差を削除する：

微分作用によって基準応答が速くなることがある：

より速い応答にはよる高度な制御努力が伴う：

調整規則は自動的に決定される：

特性"TuningRule"は使用された調整規則を返す：

指定された lsys と"carch"のために自動的に選択された調整規則を得る：

"CohenCoon"調整規則はPDおよびPFDのアーキテクチャを許容する：

"LoopShaping"規則で設計された制御器は，結果としては約1.4の最大感度になる：

開ループ伝達関数のナイキスト線図は半径1/1.4の感度の円の外側になる：

"TyreusLuyben"規則は不安定な系に安定化制御器を与えることがある：

"ZieglerNicholsFrequency"規則もまた系を安定化させることがある：

デフォルトのフィードフォワード伝達関数は1である：

これは，ステップ基準入力への大きいオーバーシュートになることがある：

PIDFeedforwardオプションを使ってトラッキングのパフォーマンスを向上させる：

フィードフォワードフィルタのための基準重みを自動的に計算する：

重み：

フィードフォワードフィルタ伝達関数：

微分フィルタのパラメータを指定する：

微分フィルタのパラメータを自動的に計算し，その値を得る：

パラメータ推定法を指定する：

別の推定法を使うと別の制御器が得られる：

3つの直列貯水槽がある系で，貯水槽3の水量が一定になるようなPID制御器を求める：

貯水槽1の送り量から貯水槽3の水量までの伝達関数：

この系の水量PDI制御器を計算する：

最初の貯水槽への入力から3番目の貯水槽の水量までの基準応答：

PID制御器はゲイン余裕と位相余裕も向上させる：

等温の連続撹拌槽反応器(CSTR)：

希釈率から製品濃度への伝達関数：

製品濃度を制御するPID制御器を計算する：

製品濃度の0.1質量モル／リットルの定点変化のための制御努力：

達成された製品濃度：

反応速度を上げる調整規則を使う：

より速い反応には，増加したピークの制御のための努力が伴う：

DCモーターの伝達関数モデルは以下の通りである．PID位置制御器を求め，その基準応答と外乱応答のシミュレーションを行う：

参照応答：

ステップ外乱応答．通常は異なる負荷による：

外乱応答と基準応答：

異なる調整規則を使う：

反応 が起る連続撹拌層反応器内での目的は，液体温度 を制御入力として使って温度 に所望の軌道を描かせることである：»

系の非線形モデル：

参照j軌道は1階の系の応答としてモデル化される：

開ループ系は所望の軌道を描かない：

PID制御器を設計し，制御器で非線形系の応答を計算する：

制御器で線形化された系の応答：

応答を比較する：